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金宏气体：高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节_蜘蛛资讯网

，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

sp;据伊朗塔斯尼姆通讯社报道，当地时间9月13日，伊朗总统莱西与亚美尼亚总理帕希尼扬通电话，双方就亚美尼亚和阿塞拜疆边境局势进行交谈。（总台记者 王威）

;   证券日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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发布时间：08:59:22